熱処理不要、完全室温で薄膜トランジスタを作製するプロセス技術　大学見本市(8月27日・28日)で公開
工学院大学(学長：今村 保忠、所在地：東京都新宿区／八王子市)の相川 慎也 教授(電気電子工学科)は、UV照射と静置のみで酸化物薄膜トランジスタ(酸化物TFT)を形成し、高温での熱処理やオゾン処理を行わずに電気特性を改善する技術を開発しました。<br />
8月27日・28日に東京ビッグサイトで開催される大学見本市2026～イノベーションジャパン(主催：JST)において最新研究成果と産業応用の可能性を企業に向けて紹介し、社会での技術活…
Source: プレスリリース新着